Супертонкое магнитно-абразивное полирование прецизионных поверхностей

Хомич Н. С., Луговик А. Ю.
Научно-инженерное предприятие «Полимаг»
Республика Беларусь, г. Минск

Источник:http://rusnanotech09.rusnanoforum.ru/Public/LargeDocs/theses/rus/poster/01/30_Khomich.pdf


Вернуться назад


       Проблема формирования нанорельефа поверхности и приповерхностного слоя с оптимальными функциональными свойствами актуальна для многих задач в различных областях техники и может быть решена при помощи метода магнитно-абразивного полирования (МАП) [1].
      Суть технологии МАП состоит в том, что ферроабразивный порошок под действием магнитного поля приобретает вид «эластичной щетки» и полирует поверхность изделия. При этом импульсное магнитное поле оказывает определяющее влияние на особенности формируемого нанорельефа и дефекты структуры приповехностного слоя. Это влияние обусловлено физико-химическими явлениями и процессами массо- и теплопереноса на атомно-молекулярном уровне, протекающими в присутствии магнитного поля при взаимодействии обрабатываемого материала и компонентов ферроабразивного порошка и применяемых технологических жидкостей.
       В процессе МАП наноразмерный приповерхностный слой обрабатываемого изделия наряду с упруго-пластической деформацией подвержен активному воздействию магнитного поля на атомно-вакансионные связи и структуру посредством механизмов магнитострикции, магнито- и электропластического эффектов. В совокупности эти факторы «встряхивают» структуру материала и выводит на поверхность слабозакрепленные дефекты (дислокации, дисклинации и др.). В результате МАП формируются приповерхностный слой с минимумом дефектов структуры и нанорельеф поверхности с высотой неровностей менее 20-и ангстрем.
       Для финишной обработки прецизионных оптических поверхностей создан не дорогой программно-управляемый комплекс МАП. С предварительно механически отполированной поверхности детали снимается интерферограмма, ее цифровая версия вводится в компьютер, управляющий процессом полирования. За одну итерацию уменьшается общая ошибка формы поверхности в 3…4 раза и шероховатость нанорельефа в 8…10 раз. На рисунке 1 показаны интерферограммы поверхности образца оптического стекла предварительно механически отполированного (рис.1а) и после МАП (рис.1б).

Интерферограммы поверхности оптического стекла   до (а) и после (б) МАП
Рисунок 1 - Интерферограммы поверхности оптического стекла до (а) и после (б) МАП

Разработаны технологические основы МАP прецизионных поверхностей оптически активных элементов лазерных устройств (монокристаллы фторидов, сапфира и др.). МАП повышает лучевую прочность монокристаллов на 1 -2 порядка по сравнению с технологией механического полирования.
Имеется опыт МАП пластин монокристаллов кремния – подложек интегральных схем. После полирования в магнитном поле показатель Ra шероховатости поверхности кремниевой пластины диаметром 150 мм составляет 0,51…1,57 нм (рисунок 2). Первые результаты по МАП кремниевых пластин представлены в работе [2].

Шероховатость поверхности Si-пластины d = 150 мм после МАП (Ra = 0,51 …1,57 нм)
Рисунок 2 – Шероховатость поверхности Si-пластины d = 150 мм после МАП (Ra = 0,51 …1,57 нм)

      Одним из важнейших показателей процесса финишной обработки прецизионных поверхностей является параметр TTV – отклонение от идеальной плоскости. В целях обеспечения минимальных значений параметра TTV выполнен комплекс исследований, включающий разработку методики расчета кинематики процесса МАП пластин, машинные и натурные эксперименты и оптимизацию технологических факторов [3,4].
      На рисунке 3 представлены результаты измерений и значения TTV<2,9 мкм для пластины кремния диаметром 150 мм после МАП.

Неплоскостность поверхности Si-пластины d = 150 мм после МАП ( TTY = 679,62 – 676,72 = 2,9 мкм)
Рисунок 3 – Неплоскостность поверхности Si-пластины d = 150 мм после МАП ( TTY = 679,62 – 676,72 = 2,9 мкм)

      Перспективно также использование МАП для подготовки поверхностей перед нанесением различных покрытий. Представляется возможным создать условия, при которых в процессе МАП можно модифицировать обрабатываемую поверхность. Инициируется диффузия атомов материала ферроабразивного порошка (железо, никель и др.) в приповерхностный слой полируемого изделия. В результате формируется своеобразный переходный слой между основным материалом изделия и наносимым покрытием. Как итог, существенно повышаются функциональные свойства покрытий – сопротивление износу и коррозии, механическая прочность и др.
       Экспериментально подтверждено, что процесс МАП значительно (в 1,5…3 раза повышает износостойкость, контактную и усталостную прочность деталей по сравнению с операцией шлифования [1,5].
       Накоплен значительный опыт по применению метода МАП для повышения коррозионной стойкости поверхностей изделий из алюминиевых и циркониевых сплавов, сталей и других материалов. Эффективно использование МАП и для подготовки поверхностей перед операциями сварки или пайки путем удаления окисных пленок и формирования поверхности с минимумом дефектов – потенциальных очагов коррозии и механического разрушения.
       Большие перспективы имеет применение МАП в области нанотехнологий. Например, для реализации метода создания наноматериалов с использованием квантов, как элементов самоорганизующихся структурообразующих систем, требуется решение сложной задачи – формирование сверхгладких бездефектных поверхностей основ-подложек, на которых выращиваются наноструктуры в виде конечного изделия.
      Большой технологический потенциал метода МАП только начинает раскрываться. Широкий диапазон возможностей, экологическая чистота, малая энергоемкость и экономичность служат гарантией применения технологий magnetic-abrasive polishing в производствах будущего в различных областях техники.
       В качестве примера на рисунке 4 представлены модели оборудования для реализации процессов МАП. Более подробная информация приведена на сайтах www.polimag.icm.by и www.polimag.eu.

Оборудование для МАП ( а,б – для МАП плоских поверхностей;  в – для МАП асферических поверхностей)
Рисунок 4 – Оборудование для МАП ( а,б – для МАП плоских поверхностей; в – для МАП асферических поверхностей)

Список использованных источников
  1. Хомич Н.С. Магнитно-абразивная обработка изделий. – Минск: БНТУ, 2006. – 218 с.
  2. Khomich M., Aliakseyev Y., Demmert A., P?hler D., Dambon O. and Schneider U. – Magnetic- abrasive machining оf silicon wafers – a novel approach // Industrial Diamond Review, 2004, № 3. – pp. 45 - 48.
  3. Хомич Н.С., Шелег В.К., Корзун А.Е., Луговик А.Ю., Федорцев Р.В.Возможности и перспективы применения технологии магнитно-абразивного полирования кремниевых пластин/Сборник материалов V Международной научно-технической конференции «Проблемы проектирования и производства радиоэлектронных средств», 29-30 мая 2008 г., г. Новополоцк, том 2, с. 79-82.
  4. Хомич Н.С., Луговик А.Ю., Федорцев Р.В., Корзун А.Е., Кухто П.В. Моделирование кинематики процесса магнитно-абразивного полирования кремниевых пластин/Вестник Белорусского национального технического университета, 2009, № 1, с.32 – 38.
  5. Wantuch E., Zutze H. Magnet- abrasive Bearbeitung// Neue Fertigungstechnologien,2002, №5, s. 232-237.